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隨著半導(dǎo)體技術(shù)的快速發(fā)展，集成電路（IC）的制造工藝變得越來(lái)越精密，尤其是在薄膜沉積和刻蝕等工藝中，厚度控制顯得尤為重要。紅外干涉測(cè)厚儀作為一種高精度的非接觸式測(cè)量工具，在半導(dǎo)體制造過(guò)程中得到了廣泛應(yīng)用。其原理基于紅外干涉現(xiàn)象，通過(guò)反射光波與薄膜表面之間的相位差來(lái)實(shí)現(xiàn)對(duì)薄膜厚度的測(cè)量。以下將分析紅外干涉測(cè)厚儀在半導(dǎo)體制造中的應(yīng)用及優(yōu)勢(shì)。1、高精度厚度測(cè)量在半導(dǎo)體制造中，薄膜的厚度對(duì)器件的性能具有直接影響。例如，在光刻、化學(xué)氣相沉積（CVD）、原子層沉積（ALD）等過(guò)程中，薄膜...

頤光科技為您精選了多款光譜橢偏儀、反射膜厚儀自研產(chǎn)品。光譜橢偏儀ME-L穆勒矩陣橢偏儀ME-L是一款全自動(dòng)高精度穆勒矩陣光譜橢偏儀，擁有行業(yè)前沿的光路調(diào)制技術(shù)，采用半導(dǎo)體制冷式探測(cè)器，具有超高靈敏度和極快的信號(hào)采集速度，同時(shí)也包括消色差補(bǔ)償器、雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器同步控制、穆勒矩陣數(shù)據(jù)分析等。ME-Mapping光譜橢偏儀ME-Mapping光譜橢偏儀可以滿(mǎn)足大尺寸晶圓的多點(diǎn)自動(dòng)化掃描測(cè)量需求，自定義繪制測(cè)量路徑，支持實(shí)時(shí)顯示膜厚分布以及數(shù)據(jù)匯總。設(shè)備采用雙旋轉(zhuǎn)補(bǔ)償器調(diào)制技術(shù)，直接測(cè)...

橢偏儀在A(yíng)R衍射光波導(dǎo)行業(yè)中的應(yīng)用AR衍射光波導(dǎo)是什么？目前，市面上較成熟的AR光學(xué)顯示方案主要有棱鏡方案、Birdbath方案、自由曲面方案和光波導(dǎo)方案等。各方案都有不同維度上的側(cè)重，但真正滿(mǎn)足AR產(chǎn)品需求的光學(xué)方案其實(shí)并不多。AR光學(xué)顯示方案特點(diǎn)缺點(diǎn)棱鏡方案可實(shí)現(xiàn)全彩顯示，技術(shù)成熟，價(jià)格便宜FOV不夠大，AR體驗(yàn)感不強(qiáng)，無(wú)法做成眼鏡形態(tài)自由曲面方案成像色彩飽和、視場(chǎng)角大、功耗較低，體積適中比普通眼鏡更厚、重，外界透光率較低、圖像容易畸變Birdbath方案結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單、門(mén)檻低...

目錄01平板顯示行業(yè)測(cè)量介紹02平板顯示行業(yè)的量測(cè)意義03平板顯示行業(yè)的測(cè)量解決方案01平板顯示行業(yè)測(cè)量介紹平板顯示器件于20世紀(jì)60年代出現(xiàn)，主要包括液晶顯示器、發(fā)光二極管、等離子顯示板、電致發(fā)光顯示器等。目前液晶顯示LCD（LiquidCrystalDisplay）與有機(jī)電致發(fā)光顯示OLED（OrganicLight-EmittingDiode）為平板顯示行業(yè)主要顯示技術(shù)，占據(jù)行業(yè)絕大部分產(chǎn)值。檢測(cè)是面板生產(chǎn)過(guò)程的必要環(huán)節(jié)。面板顯示檢測(cè)的作用是在面板顯示器件的生產(chǎn)過(guò)程中進(jìn)...

教學(xué)橢偏儀是一種精密的光學(xué)測(cè)量?jī)x器，正確的維護(hù)保養(yǎng)對(duì)于延長(zhǎng)其使用壽命、確保測(cè)量精度至關(guān)重要。以下是一些關(guān)鍵的維護(hù)保養(yǎng)方法。1、日常清潔保持儀器的清潔是維護(hù)的基礎(chǔ)。每次使用后，應(yīng)使用干凈、柔軟的鏡頭紙或棉簽輕輕擦拭儀器的光學(xué)元件表面，如透鏡、反射鏡等，去除可能沾染的灰塵、指紋等污漬。注意擦拭時(shí)要沿著同一方向，避免來(lái)回摩擦造成劃傷。對(duì)于儀器外殼和其他非光學(xué)部件，可用干布擦拭，清除表面的灰塵和雜物。2、防潮防塵教學(xué)橢偏儀對(duì)環(huán)境濕度和灰塵較為敏感。應(yīng)將儀器放置在干燥、通風(fēng)良好的環(huán)境中...